G+H調制器I-M0XX-XC11B76-P5-GH105

該調制器由鍺制成，非常適合高功率 CO 激光器的腔外調制或功率控制。將單晶鍺、高質量光學精加工、堅固的抗反射 (AR) 涂層和高可靠性換能器接合與新穎的聲學管理和光機械設計技術相結合，我們成功實現了良好的熱管理，同時保持高射頻功率處理、傳輸和衍射效率。

• 高光功率處理能力
• 低插入損耗
• 良好的指向穩定性
• 良好的光束質量
• 高衍射效率

• 產地：英國
• 波長：5.5微米
• 工作頻率：40.68兆赫、60兆赫
• 主動光圈：9.6毫米
• 上升/下降時間：120納秒/毫米
• 光學材料：鍺
• 光功率密度：最大：30 W/mm²（推薦）
• AR鍍膜反射率：每個表面 < 0.2% (<0.5% 5.25-5.75 µm)
• 傳播：> 98%
• 光偏振：線性、水平（平行于底座）
• 聲學模式：壓縮性
• 分離角：40.68 MHz 時為 41 mrad，60 MHz 時為 60 mrad
• 衍射效率：≥90%
• 射頻功率：最大：50W